液压马达
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:原理;3:用途;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
吸气≥56m3/s的鼓风机（用于循环硫化氢气体的单级、低压头离心式鼓风机）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（如微处理器、电信设备、自动数据处理设备或装置用等）;3:类型（如吊扇、落地扇、壁扇等）;4:输出功率;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
吸气≥56m3/s的压缩机（用于循环硫化氢气体的单级、低压头离心式压缩机）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
加工金属的加工中心、单工位组合机床及多工位组合机床：
加工金属的单工位组合机床
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能（如金属钻、镗、铣等）;4:加工工位数;5:动力头个数;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:中韩自贸协定项下请注明所用数控装置品牌、型号、原;9:GTIN;10:CAS;11:其他;
微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）设备，具有以下所有特性：专门设计或制造的MPCVD设备，微波功率在10千瓦以上，且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置（化学气相沉积装置(CVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置（物理气相沉积装置(PVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
