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32章 (8)
第三十二章 鞣料浸膏及染料浸膏; 鞣酸及...
73章 (1)
第七十三章 钢铁制品
83章 (7)
第八十三章 贱金属杂项制品
84章 (7)
第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械...
86章 (1)
第八十六章 铁道及电车道机车、车辆及其...
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以聚酯为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物或乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以环氧树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以氟树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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