同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
二正丙胺
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
二烷氨基乙基2氯及相应质子盐(其中烷基指甲、乙、正丙或异丙基)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
其他二烷氨基乙2醇及质子化盐(烷基指正丙或异丙基)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:包装规格;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
二烷氨基膦酰二卤(其中烷基指甲、乙、正丙或异丙基)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
二烷氨基膦酸二烷酯(其中烷基指甲、乙、正丙或异丙基)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
烷基亚膦酰烷基2二烷氨基乙酯(包括相应烷基化盐或质子化盐), 二烷氨基氰膦酸烷酯10碳原子以下(烷基指甲,乙,正丙,异丙基,例如塔崩)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
四唑嘧磺隆,唑吡嘧磺隆,三氟甲磺隆,氟磺酰草胺,甲磺草胺,嘧苯胺磺隆,氟磺胺草醚,磺草灵,吲唑磺菌胺,氯吡嘧磺隆,酰嘧磺隆,环丙嘧磺隆,甲基二磺隆,唑嘧磺草胺,双氟磺草胺,五氟磺草胺,单嘧磺酯,磺草唑胺,三氟啶磺隆钠盐(丙嗪嘧磺隆,单嘧磺隆,氟酮磺草胺,嗪吡嘧磺隆)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;