烷基亚膦酰烷基2二烷氨基乙酯（包括相应烷基化盐或质子化盐）, 二烷氨基氰膦酸烷酯10碳原子以下（烷基指甲,乙,正丙,异丙基,例如塔崩）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
氯沙林(甲基氯膦酸异丙酯);氯梭曼(甲基氯膦酸频那酯);烷基氟膦酸烷酯，10碳原子以下(烷基指甲、乙、正丙、异丙基，例如沙林，梭曼);烷基膦酰二氟(烷基指甲、乙、正丙、异丙基,例如,DF:甲基膦酰二氟)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
吡硫磷,吡唑硫磷,敌蝇威,乙虫腈,氟虫腈,唑螨酯,吡螨胺,吡草醚,吡唑草胺,氟氯草胺,吡唑萘菌胺,苯并烯氟菌唑,丁虫腈,腈吡螨酯,唑菌酯,异索威,吡唑威,吡唑醚菌酯,野燕枯,苄草唑,吡唑特,吡草酮 ,氟唑菌胺,乙唑螨腈（异丙吡草酯,唑虫酰胺,氟唑环菌胺,氟唑菌酰胺,氟唑菌苯胺,氟唑菌酰羟胺,嗪虫唑酰胺,三唑磺草酮,苯唑氟草酮,双唑草酮）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:签约日期;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
4苯氨基N苯乙基哌啶（ANPP）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:签约日期;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
N苯乙基4哌啶酮（NPP）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:签约日期;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
二氢埃托啡、苄吗啡、可多克辛、地索吗啡、醋托啡、双氢吗啡、氢吗啡醇、甲地索啡、甲二氢吗啡、美托酮、吗啡N氧化物、麦罗啡、去甲吗啡 、醋氢可待因、尼可待因、尼二氢可待因、去甲可待因 、吗啡甲溴化物、纳布啡以及它们的盐，纳呋拉啡、奥列巴文（CAS号：467049）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以聚酯为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以丙烯酸聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以乙烯聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
