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84章 (51)
第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械...
29章 (161)
第二十九章 有机化合品
32章 (36)
第三十二章 鞣料浸膏及染料浸膏; 鞣酸及...
39章 (7)
第三十九章 塑料及其制品
17章 (6)
第十七章 糖及糖食
能在含UF6气氛中使用的真空泵(耐UF6腐蚀的,也可用密封和特殊工作流体)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途(如半导体晶圆或平板显示屏制造用等);3:品牌(中文或外文名称);4:型号;5:抽气速率(m3/s或L/s);6:抽气量(Pam3/s或Pal/s);7:GTIN;8:CAS;9:其他;
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N{1[二烷基(少于或等于10个原子的链,包括环烷)胺基]亚烷基(氢、少于或等于10个原子的链,包括环烷)}P膦酰胺和相应的烷基化盐或质子化盐
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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N[1二烷基(少于或等于10个原子的链,包括环烷)胺基]亚烷基(氢、少于或等于10个原子的链,包括环烷)胺基磷酸烷(氢、少于或等于10个原子的链,包括环烷)酯和相应的烷基化盐或质子化盐
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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氯沙林(甲基氯膦酸异丙酯);氯梭曼(甲基氯膦酸频那酯);烷基膦酸烷酯,10原子以下(烷基指甲、乙、正丙、异丙基,例如沙林,梭曼);烷基膦酰二(烷基指甲、乙、正丙、异丙基,例如,DF:甲基膦酰二)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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N{1[二烷基(少于或等于10个原子的链,包括环烷)胺基]亚烷基(氢、少于或等于10个原子的链,包括环烷)}P烷基(少于或等于10个原子的链,包括环烷)膦酰胺和相应的烷基化盐或质子化盐
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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二氧威,噁虫威,丙硫克百威,丁硫克百威,呋线威,因毒磷,敌噁磷,氯灵,吡喃灵,吡喃隆,乙氧呋草黄,呋草黄,草肟,避蚊酮,苯虫醚,鱼藤酮,环虫酰肼,调呋酸,芸苔素内酯
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量(对于成分较复杂,字节较长商品可用CAS号代替);3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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分散于或溶于水介质的以树脂为基本成分的油漆及清漆(包括瓷漆及大漆),施工状态下挥发性有机物含量大于420克/升
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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其他分散于或溶于水介质的以树脂为基本成分的油漆及清漆(包括瓷漆及大漆),施工状态下挥发性有机物含量大于420克/升的除外
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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具有特定形状或装置,供运输或包装半导体晶圆、掩模或的塑料盒、箱、板条箱及类似物品
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途(如半导体晶圆、掩模或光罩用等);3:材质(塑料品种);4:半导体晶圆、掩模或光罩用需报是否具有特定形状或装置;5:半导体晶圆、掩模或光罩用需注明是否有ROHS认证;6:品牌(中文或外文名称);7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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