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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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N｛1［二烷基（少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）胺基］亚烷基（氢、少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）｝P氟膦酰胺和相应的烷基化盐或质子化盐
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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N［1二烷基（少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）胺基］亚烷基（氢、少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）胺基氟磷酸烷（氢、少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）酯和相应的烷基化盐或质子化盐
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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N｛1［二烷基（少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）胺基］亚烷基（氢、少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）｝P烷基（少于或等于10个碳原子的碳链，包括环烷）氟膦酰胺和相应的烷基化盐或质子化盐
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
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酸乳;酪乳、结块的乳及稀奶油、酸乳酒及其他发酵或酸化的乳和稀奶油,不论是否浓缩、加糖、加其他甜物质、加香料、加水果、加坚果或加可可：
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酪乳及其他发酵或酸化的乳及稀奶油（不论是否浓缩、加糖或其他甜物质、香料、水果等）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:加工方法（发酵、酸化、浓缩、加糖及其他甜物质、香料等）;3:保存方法（常温、冷藏等）;4:成分含量;5:包装规格;6:品牌（中文或外文名称）;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
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