经其他加工的水晶（未成串或镶嵌）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:种类（水晶/紫晶、软玉/和田玉等）;3:加工程度（未加工，经简单锯开、粗制成形、钻孔、打磨、热处理、充填等）;4:状态（未成串、未镶嵌等）;5:来源（天然）;6:等级;7:矿物学名及英文名称;8:规格;9:化学成分;10:颜色;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
非电动的贱金属铃、钟、锣及类似品；贱金属雕塑像及其他装饰品；贱金属相框或画框及类似框架；贱金属镜子：
税目84.44、84.45、84.46或84.47所列机器的辅助机器(例如,多臂机、提花机、自停装置及换梭装置);专用于或主要用于税目84.44、84.45、84.46或84.47所列机器的零件、附件(例如,锭子锭壳、钢丝针布、梳、喷丝头、梭子、综丝、综框、针织机用针)：
织机用筘、综丝、综框
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（适用于XX品牌XX机或通用于XX机等）;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）设备，具有以下所有特性：专门设计或制造的MPCVD设备，微波功率在10千瓦以上，且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置（化学气相沉积装置(CVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置（物理气相沉积装置(PVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
