能在含UF6气氛中使用的真空泵（用耐UF6腐蚀的材料制成或保护。这些泵可以是旋转式或正压式，可有排代式密封和碳氟化合物密封并且可以有特殊工作流体存在）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（如半导体晶圆或平板显示屏制造用等）;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:抽气速率（m3/s或L/s）;6:抽气量（Pam3/s或Pal/s）;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
吸气≥2m3/min的耐UF6腐蚀鼓风机（轴向离心式或正排量鼓风机,压力比在1.2:1和6:1之间）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（如微处理器、电信设备、自动数据处理设备或装置用等）;3:类型（如吊扇、落地扇、壁扇等）;4:输出功率;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
吸气≥2m3/min的耐UF6腐蚀压缩机（轴向离心式或正排量压缩机,压力比在1.2:1和6:1之间）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）设备，具有以下所有特性：专门设计或制造的MPCVD设备，微波功率在10千瓦以上，且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置（化学气相沉积装置(CVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置（物理气相沉积装置(PVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
