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正逆转气钻
数据更新：1970年01月01日
吸气≥2m3/min的耐UF6腐蚀压缩机（轴向离心式或正排量压缩机,压力比在1.2:1和6:1之间）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
其他空气泵及通风罩（通风罩指装有风扇的通风罩或循环气罩,平面边长>120cm）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
使用其他气的炉用燃烧器
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:燃料类型;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
内燃发动机的进气过滤器
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:原理;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
手提式电动钻
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:驱动方式;3:是否为手提式;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）设备，具有以下所有特性：专门设计或制造的MPCVD设备，微波功率在10千瓦以上，且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置（化学气相沉积装置(CVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置（物理气相沉积装置(PVD)）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
