氧化、扩散、退火及其他热处理设备（制造半导体器件或集成电路用的）
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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用）
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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机）
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制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
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其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
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制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
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