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排毒养阴液
数据更新：2024年12月27日
噻螨威,噻霉酮,苯噻硫氰,烯丙苯噻唑,草除灵,噻唑禾草灵,苯噻隆,甲基苯噻隆,苯噻酰草胺,苯噻菌酯,毒氟磷,苯噻菌胺
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
噁草酮,氟噻草胺,活化酯,高效二甲吩草胺,噁唑磷,蔬果磷,茂硫磷,除害磷,噁唑禾草灵,毒鼠硅,噻鼠灵,吡噻菌胺,甲基吡噁磷,丁硫环磷,硫环磷,杀扑磷,伏杀硫磷,地胺磷,福拉比,噻节因,糠菌唑,精噁唑禾草灵,砜吡草唑（氟吡呋喃酮,氟嘧菌酯,硅噻菌胺,糠氨基嘌呤,双丙环虫酯）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:GTIN;5:CAS;6:其他;
濒危蛇毒制品（供治疗或预防疾病用）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:加工工艺;4:成分;5:来源;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
非濒危蛇毒制品（供治疗或预防疾病用）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:加工工艺;4:成分;5:来源;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
彩色光刻胶用光刻胶颜料分散液
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:染料须报明种类（分散染料、酸性染料、碱性染料等）;5:包装规格;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以聚酯为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以丙烯酸聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以乙烯聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以丙烯酸聚合物或乙烯聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
