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32章 (13)
第三十二章 鞣料浸膏及染料浸膏; 鞣酸及...
37章 (5)
第三十七章 照相及电影用品
84章 (37)
第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械...
85章 (21)
第八十五章 电机、电气设备及其零件; 录...
90章 (14)
第九十章 光学、照相、电影、计量、检验...
其他粘敷料及有粘涂层的物品(经药物浸涂或制成零售包装,供医疗、外科、牙科或兽医用)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:成分;4:是否经过药物浸涂或制成零售包装;5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:包装规格;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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X检查造影剂;用于病人的诊断试剂
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其他X检查造影剂、诊断试剂
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:成分;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:包装规格;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
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医用凝制品、润滑剂、偶合剂(用于人类或作兽药用,或外科手术,体检时用)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:成分;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:包装规格;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
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陶瓷、搪瓷及玻璃工业用的调制颜料、遮光剂、着色剂、珐琅和釉料、釉底料(泥釉)、瓷釉以及类似产品;搪瓷玻璃料及其他玻璃,呈粉、粒或粉片状的:
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瓷釉及类似制品
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:外观;4:成分含量;5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以聚酯为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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