微波等离子体化学气相沉积法（MPCVD）设备，具有以下所有特性：专门设计或制造的MPCVD设备，微波功率在10千瓦以上，且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
等离子体雾化炉和等离子体熔化炉（功率≥50千瓦,能在>1200℃的熔化温度工作）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（工业用，实验室用）;3:加热原理;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
其他微波管（不包括栅控管）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:类型;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
