制造半导体器件（包括集成电路）时检验半导体晶圆、器件（包括集成电路）或检测光掩模或光栅用的仪器和器具（第90章其他税目未列名的）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
光刻机用电机控制器
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:原理;4:功能;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
带有风扇的高效空气粒子过滤单元(HEPA)的封闭洁净室
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:材质;3:内部配置;4:规格（尺寸）;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
其他X光检查造影剂、诊断试剂
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:成分;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:包装规格;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
光刻机用光斑调节装置（90章其他品目未列名的）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:原理;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
用于制造燃气涡轮发动机/燃气轮机叶片、导向器等涡轮构型部件所需高温合金的冷室压铸机
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
其他冷室压铸机
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01(以聚酯为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:GTIN;10:CAS;11:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01(以丙烯酸聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:GTIN;10:CAS;11:其他;
