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(1)
专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆...
查询结果:
炉法硬质炭黑
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84章
数据更新:2024年12月27日
8479899957
微波等离子体化学气相沉积
法
(MPCVD)设备,具有以下所有特性:专门设计或制造的MPCVD设备,微波功率在10千瓦以上,且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
相关产品 »
null
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84863049
其他制造平板显示器用湿
法
蚀刻、显影、剥离、清洗装置
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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