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84章 (40)
第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械...
32章 (8)
第三十二章 鞣料浸膏及染料浸膏; 鞣酸及...
38章 (2)
第三十八章 杂项化学产品
39章 (6)
第三十九章 塑料及其制品
40章 (2)
第四十章 橡胶及其制品
洗碟机;瓶子及其他容器的洗涤或干燥机器;瓶、罐、箱、或其他容器装填、封口、密封、贴标签的机器;瓶、罐、管、筒或类似容器的包封机器;其他包装或打包机器(包括缩包装机器);饮料充气机:
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以聚酯为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物或乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以环氧树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以氟树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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纯度高于百万分之五硼量,密度大于1.50g/cm3的核级石墨;20℃下的密度、拉伸断裂应变、膨胀系数符合特殊要求的人造细晶粒整体石墨;高纯度(>99.9%)、高强度(抗折强度>30M pa)、高密度(>1.73 克/立方厘米)的人造石墨
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:状态;4:加工工艺;5:成分含量;6:品牌(中文或外文名称);7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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