制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
能在含UF6气氛中使用的真空泵（用耐UF6腐蚀的材料制成或保护。这些泵可以是旋转式或正压式，可有排代式密封和碳氟化合物密封并且可以有特殊工作流体存在）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（如半导体晶圆或平板显示屏制造用等）;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:抽气速率（m3/s或L/s）;6:抽气量（Pam3/s或Pal/s）;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
能在含UF6气氛中使用的真空泵（耐UF6腐蚀的,也可用氟碳密封和特殊工作流体）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（如半导体晶圆或平板显示屏制造用等）;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:抽气速率（m3/s或L/s）;6:抽气量（Pam3/s或Pal/s）;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
用氟聚合物制造的、入口管和出口管内径不超过3厘米的热交换装置
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:若为用氟聚合物制造的需注明;3:若为用氟聚合物制造的需注明入口管和出口管内径尺寸;4:用途;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
用氟聚合物制造的厚度不超过140微米的过滤膜或净化膜的压滤机
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:原理;4:若为用氟聚合物制造的需注明;5:氟聚合物制的需报过滤或净化介质的外观（膜等）及厚度;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
用氟聚合物制造的厚度不超过140微米的过滤膜或净化膜的其他液体过滤或净化机器及装置
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:原理;4:若为用氟聚合物制造的需注明;5:氟聚合物制的需报过滤或净化介质的外观（膜等）及厚度;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
用氟聚合物制造的厚度不超过140微米的过滤膜或净化膜的液体过滤或净化机器及装置的零件；装备不锈钢外壳、入口管和出口管内径不超过1.3厘米的气体过滤或净化机器及装置的零件
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（适用于XX品牌XX机或通用于XX机等）;3:品牌（中文或外文名称）;4:型号;5:GTIN;6:CAS;7:其他;
