抗癌药原料（吡柔比星、丝裂霉素、盐酸表柔比星、盐酸多柔比星、盐酸平阳霉素、盐酸柔红霉素、盐酸伊达比星）（不适用抗癌药增值税政策的）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途（用于制口服、注射还是外用药等）;3:GTIN;4:CAS;5:其他;
其他X光检查造影剂、诊断试剂
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:成分;4:品牌（中文或外文名称）;5:型号;6:包装规格;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
彩色光刻胶用光刻胶颜料分散液
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:染料须报明种类（分散染料、酸性染料、碱性染料等）;5:包装规格;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
陶瓷、搪瓷及玻璃工业用的调制颜料、遮光剂、着色剂、珐琅和釉料、釉底料(泥釉)、光瓷釉以及类似产品;搪瓷玻璃料及其他玻璃,呈粉、粒或粉片状的：
光瓷釉及类似制品
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:外观;4:成分含量;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以聚酯为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以丙烯酸聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以乙烯聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;6:包装规格;7:品牌（中文或外文名称）;8:型号;9:是否为涂料（即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜）;10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
