其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
各种天然砂,不论是否着色,但第二十六章的含金属矿砂除外:
标准砂(不论是否着色,第二十六章的金属矿砂除外)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:来源(如海砂、湖砂或河砂等);3:GTIN;4:CAS;5:其他;
其他天然砂(不论是否着色,第二十六章的金属矿砂除外)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:来源(如海砂、湖砂或河砂等);3:GTIN;4:CAS;5:其他;
含有金属、砷及其化合物的矿渣、矿灰及残渣(冶炼钢铁所产生的灰、渣除外):
主要含铜的矿渣、矿灰及残渣(冶炼钢铁所产生灰、渣的除外)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:加工方法(破碎、磨碎、磁选、重力分离、浮选、筛选等);4:形状;5:成分含量;6:来源;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
含其他金属及其化合物的矿渣、矿灰及残渣,五氧化二钒>20%(冶炼钢铁所产生的及含钒废催化剂除外)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:加工方法(破碎、磨碎、磁选、重力分离、浮选、筛选等);4:形状;5:成分含量;6:来源;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
含其他金属及其化合物的矿渣、矿灰及残渣,10%<五氧化二钒≤20%的(冶炼钢铁所产生的及含钒废催化剂除外)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:加工方法(破碎、磨碎、磁选、重力分离、浮选、筛选等);4:形状;5:成分含量;6:来源;7:GTIN;8:CAS;9:其他;