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数据更新：1970年01月01日
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以丙烯酸聚合物或乙烯聚合物为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以环氧树脂为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01（以氟树脂为基本成分）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液：挥发性有机物含量＞700g/L，反射值（N）为12.1，及吸光指数（K）（248nm或193nm波长测试）为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量（以“克/升”表示）;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
其他税目未列名的调制胶及其他调制黏合剂;适于作胶或黏合剂用的产品,零售包装每件净重不超过1千克：
硅酮结构密封胶（零售包装每件净重不超过1千克）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:成分含量;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
其他适于作胶或粘合剂的零售产品（零售包装每件净重不超过1千克）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:成分含量;5:品牌（中文或外文名称）;6:型号;7:GTIN;8:CAS;9:其他;
符合特定标准的硝铵炸药（硝胺类物质超过2% ,或密度＞1.8g/cm3、爆速＞8000m/s）
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分;3:GTIN;4:CAS;5:其他;
纯度高于百万分之五硼量，密度大于1.50g/cm3的核级石墨；20℃下的密度、拉伸断裂应变、热膨胀系数符合特殊要求的人造细晶粒整体石墨；高纯度（>99.9%）、高强度（抗折强度>30M pa）、高密度（>1.73 克/立方厘米）的人造石墨
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:状态;4:加工工艺;5:成分含量;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
以高纯度（>99.9%）、高强度（抗折强度>30Mpa）、高密度（>1.73克方厘米）的人造石墨为基本成分的半制品；以天然鳞片石墨为基本成分的半制品
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:状态;4:加工工艺;5:成分含量;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
