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37章 (11)
第三十七章 照相及电影用品
32章 (11)
第三十二章 鞣料浸膏及染料浸膏; 鞣酸及...
84章 (68)
第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械...
02章 (2)
第二章 肉及食用杂碎
04章 (25)
第四章 乳品; 蛋品; 天然蜂蜜; 其他食用...
其他涂卤化银无齿孔窄胶卷(成卷未曝光感光胶片,窄胶卷指宽度≤105mm)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:材质;4:是否成卷;5:是否一次成像;6:是否已曝光;7:规格尺寸(长x宽x厚度);8:品牌(中文或外文名称);9:型号;10:总面积(平方米),包括涂布和白边面积之和;11:包装规格(张/盒或平方米/卷等);12:GTIN;13:CAS;14:其他;
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不含银的感光
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:成分;5:是否含银;6:是否有感光作用;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:GTIN;10:CAS;11:其他;
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其他感光
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:成分;5:是否含银;6:是否有感光作用;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:GTIN;10:CAS;11:其他;
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彩色刻胶用刻胶颜料分散
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:染料须报明种类(分散染料、酸性染料、碱性染料等);5:包装规格;6:品牌(中文或外文名称);7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以聚酯为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:分散于或溶于非水介质请注明;5:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);6:包装规格;7:品牌(中文或外文名称);8:型号;9:是否为涂料(即是否用于涂于物体表面形成固态涂膜);10:是否用于集成电路生产;11:GTIN;12:CAS;13:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物或乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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