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38章 (44)
第三十八章 杂项化学产品
39章 (10)
第三十九章 塑料及其制品
84章 (53)
第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械...
13章 (5)
第十三章 虫胶; 树胶、树脂及其他植物液...
25章 (4)
第二十五章 盐; 硫磺; 泥土及石料; 石膏...
同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以丙烯酸聚合物或乙烯聚合物为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以环氧树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01(以氟树脂为基本成分)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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同时满足以下指标的用于集成电路生产的防反射薄膜生成液:挥发性有机物含量>700g/L,反射值(N)为12.1,及吸光指数(K)(248nm或193nm波长测试)为01
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:施工状态下挥发性有机物含量(以“克/升”表示);5:品牌(中文或外文名称);6:型号;7:是否用于集成电路生产;8:GTIN;9:CAS;10:其他;
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配制的催干
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配制的催干
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:成分含量;3:用途;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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含濒危物种成分的洗发
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:品牌(中文或外文名称);5:型号(货号);6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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其他洗发(香波)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:品牌(中文或外文名称);5:型号(货号);6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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烫发
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:包装规格;4:品牌(中文或外文名称);5:型号(货号);6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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