利用温度变化处理单晶硅的机器及装置（制造单晶柱或晶圆用的）
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氧化、扩散、退火及其他热处理设备（制造半导体器件或集成电路用的）
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制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外）
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制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外）
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其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置（制造平板显示器用的机器及装置）
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主要用于或专用于制作和修复掩膜版或投影掩膜版的装置（掩膜版(mask),投影掩膜版(reticle)）
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塑封机（主要用于或专用于装配与封装半导体器件和集成电路的设备）
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