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8401 (1)
核反应堆;核反应堆的未辐照燃料元件(释热元...
8402 (2)
蒸汽锅炉(能产生低压水蒸汽的集中供暖用的...
8407 (5)
点燃往复式或旋转式活塞内燃发动机:
8408 (4)
压燃式活塞内燃发动机(柴油或半柴油发动机):
8410 (6)
水轮机、水轮及其调节器:
保护胶涂覆机及染料层旋涂机(光盘生产用,具有独立功能的)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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六面顶压机设备,具有以下所有特性:专门设计或制造的X/Y/Z三轴六面同步加压的大型液压机,缸径尺寸大于等于500毫米或设计使用压力大于等于5千兆帕。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)设备,具有以下所有特性:专门设计或制造的MPCVD设备,微波功率在10千瓦以上,且微波频率为915兆赫或2450兆赫。
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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磁悬浮轴承(轴承组合件, 由悬浮在充满阻尼介质的环形磁铁组成);轴承/阻尼器(安装在阻尼器上的具有枢轴/盖的轴承)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:如为轴承座需注明是否带有滚珠或滚子轴承;3:用途;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:制造单晶柱或晶圆用的机器及装置:
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利用温度变化处理单晶硅的机器及装置(制造单晶柱或晶圆用的)
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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主要用于或专用于制作和修复掩膜版或投影掩膜版的装置(掩膜版(mask),投影掩膜版(reticle))
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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其他主要或专用于装配封装半导体器件和集成电路的设备
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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IC工厂专用的自动搬运机器人
申报要素 » 0:品牌类型;1:出口享惠情况;2:用途;3:功能;4:品牌(中文或外文名称);5:型号;6:GTIN;7:CAS;8:其他;
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